Ajudem el món a créixer des del 1983
English
Regulador de pressió de gas a gran pressió de 25MPA s'utilitza per a la imatge de gas tòxic corrosiu de laboratori
  • El regulador de pressió de gas a gran pressió de 25MPA s'utilitza per al gas tòxic corrosiu de laboratori
  • El regulador de pressió de gas a gran pressió de 25MPA s'utilitza per al gas tòxic corrosiu de laboratori
  • El regulador de pressió de gas a gran pressió de 25MPA s'utilitza per al gas tòxic corrosiu de laboratori
  • El regulador de pressió de gas a gran pressió de 25MPA s'utilitza per al gas tòxic corrosiu de laboratori
  • El regulador de pressió de gas a gran pressió de 25MPA s'utilitza per al gas tòxic corrosiu de laboratori
  • El regulador de pressió de gas a gran pressió de 25MPA s'utilitza per al gas tòxic corrosiu de laboratori

El regulador de pressió de gas a gran pressió de 25MPA s'utilitza per al gas tòxic corrosiu de laboratori

Descripció curta:

Funcions

1. Estructura de detecció de pistons d'una sola etapa
2 Range d’ajust de pressió de sortida més gran
3. Es pot utilitzar per a gas estàndard i gas no corrosiu
4. Instal·leu un element de filtre de 20 micres a l’entrada
5. Es poden proporcionar opcions d'aplicació d'entorn d'oxigen


Detall del producte

Vídeo

Paràmetres

Informació de la comanda

Aplicacions

Cap

Etiquetes de producte

Descripció del producte

海报图
细节

Funcions

1. Estructura de detecció de pistons d'una sola etapa
2 Range d’ajust de pressió de sortida més gran
3. Es pot utilitzar per a gas estàndard i gas no corrosiu
4. Instal·leu un element de filtre de 20 micres a l’entrada
5. Es poden proporcionar opcions d'aplicació d'entorn d'oxigen
  • Anterior:
  • A continuació:

    • Especificació del regulador de pressió del gas

    Dades tècniques

    1. Pressió màxima d’entrada: 4500psi o 6000psi

    2. Range de pressió de sortida: 0 ~ 1500,0 ~ 3000

    3. Material dels components interns:

    Seient de la vàlvula: PCTFE

    Pistó: 316L

    O-Ring: FKM

    Element de filtre: 316L

    4. Temperatura de treball:- 26 ℃ ~ + 74 ℃ (- 15 ℉ ~ + 165 ℉)

    5. Taxa de fuites (heli): Inside: Sense bombolles visibles externes: no hi ha bombolles visibles

    6. Coeficient de flux (CV): 0,09

    7. Port parent: Inlet: 1 / 4NPT Outlet: 1 / 4NPT PRESSIÓ Port: 1 / 4NPT

    R11 尺寸图 1 R11 流量图

    TecNics de neteja

    Estàndard (WK-BA)
    Els accessoris soldadors es netegen d’acord amb les nostres especificacions estàndard de neteja i envàs.
    No cal afegir sufixos en fer la comanda.
    Neteja d’oxigen (WK - O2)
    Hi ha especificacions per a la neteja i els envasos de productes per a entorns d’oxigen.
    Això compleix els requisits de neteja de la classe C ASTM G93. En fer la comanda, afegiu -o2 al final del número de comanda.

    R41-1

    Indústries implicades

    Tft-lcd

    Els gasos especials del procés utilitzats en el procés de deposició de CVD del procés de fabricació de TFT-LCD són Silà (S1H4), amoníac (NH3), fosfina (PH3), òxid nitrós (N2O), NF3, etc. A més, també hi participen en el procés d’hidrogen d’alta puresa i d’alta puresa i altres gasos massius. L’argó s’utilitza en el procés de sputtering i el gas que forma de pel·lícula espatllat és el material principal per a la sputtering. En primer lloc, es requereix que el gas formador de pel·lícules no pugui reaccionar amb l'objectiu i el gas més adequat és el gas inert. També s’utilitzarà una gran quantitat de gas especial en el procés de gravat, mentre que el gas especial electrònic és majoritàriament inflamable, explosiu i altament tòxic, de manera que els requisits per al circuit i la tecnologia de gas són molt elevats. La tecnologia WOFEI està especialitzada en el disseny i la instal·lació del sistema de transmissió especial de gas especial de puresa ultra alta.
    Hf94b06b9cb2d462e9a026212080db1efq
    Els gasos especials s’utilitzen principalment en processos de gravació de pel·lícules i gravat en sec a la indústria LCD. Hi ha molts tipus de LCD, entre els quals TFT-LCD és la tecnologia LCD més utilitzada a causa del seu temps de resposta ràpid, la qualitat d’imatge elevada i el cost gradualment inferior. El procés de fabricació del tauler TFT-LCD es pot dividir en tres etapes: la matriu frontal, la cel·la mitjana i el conjunt del mòdul posterior. El gas especial electrònic s’utilitza principalment en les etapes de gravat i gravat en sec del procés de matriu frontal. Després de múltiples processos de formació de pel·lícules, les pel·lícules i pel·lícules de metall SINX no metàl·liques com la xarxa, la font, el desguàs i la ITO es dipositen respectivament al substrat.
     H37005b2bd8444d9b949c9cb5952f76edw

    1. Qui som?

    We are based in Guangdong, China, start from 2011,sell to Southeast Asia(20.00%),Africa(20.00%),Eastern Asia(10.00%),Mid East(10.00%),Domestic Market(5.00%),South Asia(5.00%),Northern Europe(5.00%),Central America(5.00%),Western Europe(5.00%),South America(5.00%),Eastern Europe(5.00%),North Amèrica (5,00%). Hi ha un total de 51-100 persones a la nostra oficina.

    2. Com podem garantir la qualitat?

    Sempre una mostra de preproducció abans de la producció massiva; Sempre la inspecció final abans de l'enviament;

    3. Què podeu comprar de nosaltres?

    Regulador de pressió, accessoris de tubs, vàlvula de solenoide, vàlvula d’agulla, vàlvula de comprovació

    4. Per què no hauríeu de comprar -nos a altres proveïdors?

    Tenim un parell d’anys amb enginyers professionals i tècnics dedicats.

    5. Quins serveis podem proporcionar?

    Condicions de lliurament acceptades: FOB, CIF, Exw ；

    Moneda de pagament acceptada: USD, CNY;

    Tipus de pagament acceptat: T/T, L/C, Western Union;

    Idioma parlat: anglès, xinès

    Escriviu el vostre missatge aquí i ens ho envieu

    Categories de productes